发布日期：2025-05-14 14:08 点击次数：135
近日开yun体育网
我校武汉光电国度相关中心团队
在国内当先攻克
合成光刻胶所需的原料和配方
助推我国芯片制造要道原材料
打破瓶颈
其研发的T150A光刻胶系列产物
已通过半导体工艺量产考据
兑现了 原材料一王人国产
配方全自主打算
有望始创国内半导体光刻制造新场面
光刻胶是一种感光材料，用于芯片制造的光刻本领，责任旨趣一样于影相机的菲林曝光。芯片制造时，会在晶圆上涂上光刻胶，在掩膜版上画图好电路图。当光泽透过掩膜版映照到光刻胶上会发生曝光，过程一系列责罚后，晶圆上就会得到所需的电路图。 由于光刻胶是芯片制造的要道材料，国际企业对其原料和配方高度守密，现在我国所使用的光刻胶九成以上依赖入口。
武汉光电国度相关中心团队研发的这款半导体专用光刻胶对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。 相较于国际同系列某产物，T150A在光刻工艺中发达出的极限分别率达到120nm，且工艺宽宏度更大、认知性更高、留膜率更优，其对刻蚀工艺发达更好，通过考据发现T150A中密集图形过程刻蚀，基层介质的侧壁垂直度发达优异。
团队在电子化学品限度深耕二十余载，安身于要道光刻胶底层技艺相关，费力于半导体专用高端电子化学品原材料和光刻胶的开拓，并以新技艺门道为半导体制造开辟新式先进光刻制造技艺，同期为材料的分析与考据提供全面的技巧。
团队持重东说念主默示：“以光刻技艺的分子基础相关和原材料的开拓为伊始，最终得到具有自主常识产权的配方技艺，这仅仅个运转。咱们团队还会发展一系列欺诈于不同场景下的KrF与ArF光刻胶，费力于打破国际卡脖子要道技艺，为国内干系产业带来更多惊喜。”
开头：华科
声明：仅代表作家个东说念主不雅点，作家水平有限，如有不科学之处，请不才方留言指正！